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    是极快，不是一般的快！

    在上世纪90年代的时候，就有实验室利用阴阳极呈直角的反应器实现了930m/h的高速生长。

    这可是930m/h，不是930μm/h！

    而且，就算是930μm/h，那也是远高于现在四十三所制备金刚石薄膜的40μm/h的。

    更不要说930m/h了。

    相比之下，一个的速度就是火箭，另一个则是自行车。

    或许连自行车都算不上。

    也是因为这种告诉生长的速率，这种方法一度成为热点方法。

    制备工艺的话，也并不复杂。

    主要就是在杆状阴极和环形阳极之间施加直流电压，当气体通过时引发电弧，加热气体，高温膨胀的气体从阳极嘴高速喷出，形成等离子体射流。

    引弧的气体通常是氩气，等形成等离子体射流后，通入反应气体甲烷和氢气，甲烷和氢气被离化，并达到水冷沉积台的衬底，在衬底上成核、生长金刚石薄膜。

    而且这种方法制备金刚石薄膜，不禁速度快，而且质量高，还无电磁污染。

    但是，由于喷射等离子体的速度场合温度场不均匀，使其沉积范围内膜厚不均，会呈梯形分布。

    在沉积速度过快时，膜的表面不平整，就会大大降低膜的致密度。

    看到这，陈舟古怪的笑了笑：“看来，太快了也不好……”

    但是整体来说，这种方法还是很有研究潜力的。

    陈舟在草稿纸上做着记录，并把自己的想法记在一旁。

    把dapcvd法的相关文献看完后，陈舟右手滑动鼠标，点开了一个新的pdf文件。

    最后一个制备方法。

    微波等离子体cvd法，也就是mpcvd法。

    是四十三所所采用的的方法。

    也是陈舟查这么文献的目的。

    和dapcvd法被报道的时间，仅相隔一年。

    这也是目前用于沉积金刚石薄膜最为广泛的方法。

    这种方法最先是通过一种轴向的天线耦合器，将2~5w的矩形微波进行导转换，在大气压下形成等离子体。

    而高压等离子体就会由耦合器的“针孔”处喷射到水冷的样品台上，继而形成金刚石薄膜。
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