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    在目前，duv光刻机受限于精度制程，已经无法满足后来14nm、7nm、5nm等更高制程的需求了，这时候就需要依靠euv光刻机。

    euv光刻机采用的是一种13.5nm的极紫外光，可以在大约200平方毫米的面积下集成超过105亿颗晶体管。

    用euv光刻机制造7nm级芯片，只需要曝光一次。

    在现阶段，

    国产芯片仅能满足日常生产生活的基础要求，高端光刻机无法进入国内，高级芯片生产的困难还是很严峻。

    钉子如果想真正解决芯片的问题，第一件需要解决的就是光刻机精度。

    “既然不能制造光刻机，那能不能对现有的光刻机制程进行改进？”

    罗离忽然有了一个大胆的想法。

    众所周知，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，随着科技的进步，极限光源的波长也在不断缩小，从duv光源的248nm级数不断突破，一直来到现在的13.5nm极紫光束，进步不可谓不大。

    这也是现在芯片技术能突破个位数的根本原因。

    既然无法从其他资本手中买到高级光刻机，也无法凭空从系统中兑换，那有没有可能通过系统的黑科技技术，将国内现有的光刻机工艺水平提升到世界水平……

    思绪至此，罗离的心跳开始加快。

    对啊，

    改装升级的成本可比从无到有低多了，而且现在国内的芯片工艺也不算太拉胯，要是……

    罗离没有丝毫犹豫，马上打开系统兑换窗口，然后在搜索框中输入文字。

    再度摒弃一系列花里胡哨的科幻风选项，罗离一口气直接将列表拖拽到最底下。

    一行不起眼的小字出现在眼前。

    【“稳态微距束”技术：20万积分；】

    光速浏览完介绍，罗离瞪大了眼睛。

    就你了！

    咬咬牙，直接选择兑换！！

    “唰！”

    强光一闪而过。


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