第九五六章 研发极紫外光-《我的一九八五》


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     book chapter list     前世虽然Nikon凭借技术实力和资金实力先后研制成功F2准分子激光器和浸没式光刻技术,生产成功浸没式光刻机,但半导体产业更新换代迅速,导致Nikon光刻机的可靠性能始终落后于ASML,从此,全球高端光刻机龙头Nikon逐渐败给了全球光刻机新霸主ASML。

    前世由于ASML独有的EUV光源无人能够研制,国内光刻机光源生产公司的技术没有竞争力,以美国为首的西方国家并没有限制ArF准分子激光器和ArFi准分子激光器的出口。

    BSEC可以直接进口市场价45五万美元一台的GCA牌ArF准分子激光器,购买蔡司公司生产的光学系统,进口6英寸晶圆,加上独创的光刻机磁悬浮式双工作台系统,就能生产1um制程工艺的光刻机,虽然6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线是西方国家淘汰的生产线,但在国内还大有市场。

    BSEC就可以活下来!

    理想很美好,但现实很骨感,BSEC就是能制造1um制程工艺的光刻机,不代表能生产6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线!

    国内缺乏半导体生产线设备的全产业链,如今都压在了BSEC的肩上。

    BSEC生产的1um制程工艺的光刻机也没有晶圆公司会用!

    谁投资谁倒霉,这就是“造不如买、买不如租”的主要原因!

    好在193nm波长的世界性光学难题将困惑光刻机行业八年,给了BSEC成长的机会,不然重生者也无能为力。

    BSEC的突破点就是赶在ASML之前率先研制成功世界上第一台193nm波长的浸没式光刻机!

    孙健所有的运作就是围绕这个突破点!

    EUV光刻机太过复杂,即使投入巨资研发成功EUV光源,但对相关的光学系统、光刻胶、掩膜版等设备和材料的要求太过苛刻,需要十万个零件,据说前世有五千多家生产商为EUV光刻机供货,重生者还不敢付诸实践。

    “孙董事长,BSEC能否不转让磁悬浮式双工作台系统专利给Nikon?”

    拥有了BSEC的磁悬浮式双工作台系统专利的终身授权,GCA光刻机光学精密设备研究所升级改造,只要研制成功适应800nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统(不能出售和转让专利技术),GCA光刻机的制程工艺就有可能达到500nm,达到Nikon光刻机的制程工艺,购买休斯电子材料公司(AEMC)生产的8英寸晶圆,还能提高35%左右的产能。

    有了磁悬浮式双工作台系统和蔡司公司的光学系统,Gikon重新争夺高端光刻机市场份额的资本。
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