第一五一零章 半导体衰退周期是否结束-《我的一九八五》


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    这也是BSEC追赶GCA和Nikon、国智CPU研究所追赶Intel和AMD的历史机遇,不然即使投入巨资也很难赶上。

    孙健制定的策略是紧跟,不是超越,美国第一。

    ASML研发成功65nm浸没式光刻机之前,孙健不会让BSEC研发成功的65nm浸没式光刻机面世。

    一旦BSEC光刻机超过GCA,就会被美国商务部认定国家安全遭受威胁,被制裁跑不了,孙健也不敢出国了。

    BSEC研制成功的90nm光刻机是为了生产GZCX4准备的,按照9个月的建设周期,PGCA半导体公司到2002年6月才能实现量产。

    陈永清院士率领国智CPU研究所台式机CPU研发部的600多名研发人员,投资6亿元,经过一年半的研发,GZCX4的研发已经到了收尾阶段,由于没有90nm制程工艺的半导体生产线,孙健指示密而不发,避免刺激美国。

    参照Pentium4,GZCX4内部改成集成4800万个晶体管,运行速度16GHz,最大存储容量8TB,采用90nm制程工艺,赶超Pentium4。

    BSEC去年8月15日研制成功90nm光刻机后,去年9月1日,美国商务部解除了90nm光刻机对中G的出口限制。

    GCA和Nikon早在1999年就研制成功90nm光刻机,由于全球光刻机产业被193nm波长的世界性光学难题卡住了,不然GCA早就研制成功45nm光刻机了,遥遥领先。

    孙健将一条90nm制程工艺半导体生产线中一半的光刻机订单交给了GCA,美国商务部没有找BSEC的麻烦。

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