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    至于第三点，那就是洁净室，洁净等级要求更高，无尘车间内的空气要比外面干净10000倍以上。

    第四，则是高数值孔径的反射镜，要求表面非常的平整。

    如果放大到华国那么大，表面的起伏度也要低于一根头发丝。

    这几个难点，是研发euv光刻机的拦路虎。

    其中，光源这些，要靠科宇光源获得突破；反射镜，要靠欧普光电。

    此外，就是规避专利了。

    整个团队，已经划分了8个组，目前主要是进行理论设计。

    在这一方面，江成一个组一个组地进行了交流，也听了下大家的一些想法。

    和听他们自我介绍不一样，江成这会儿谈的很仔细，对大家的一些好的想法，进行了深入地探讨，一边交流，一边模拟。

    对于这些研发工程师来说，江成又一次被神话了。

    不仅哪一块都懂，还只是听了听大家介绍，就把大部分（其实是全部）人都记下了。

    这种记忆力，真的是太过于妖孽。

    当然这一次交流，也足足花了江成7天的时间，这才把整个研发方向，初步有了一个想法。

    那么首先，就是如果设计发出13.5nm的光。

    阿斯麦耳采用的是轰击锡滴，但江成选择的是另一个路径。

    那就是利用两束激光互相轰击产出极紫外光。

    当然，这还只是一个设想，但江成通过体内模拟实验室，认为这是一个好的方向，为此初步选定了该方案。

    至于这些激光的要求，可以根据理论设计的参数，同科宇光源具体对接沟通，让他们生产研制即可。

    其次，就是反射镜。

    和duv镜头不一样的是，euv光刻机中，更多是需要反射。

    原因其实很简单，那就是13.5nm的光波长，是无法透过目前用的透镜材料，也找不到那么高透过率的材料制造透镜。

    因此只能选择反射。
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